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放眼目前的国内市场,差距将被缩小至23nm

  • 日期:2020-05-24 11:01:42
  • 来源:互联网
  • 编辑:小优
  • 阅读人数:370

中美的贸易摩擦始终不断,要想在这场没有硝烟的对抗中不落下风,一是需要坚定不移的维护中方合法权益,二是加快国内的技术研发。

近期比较突出的争议产品包括半导体、芯片、光刻机等。

放眼目前的国内市场,差距将被缩小至23nm(图1)

5月12日,美国半导体制造商LAM、AMAT等公司发布函件,要求中国的军用产品代工厂不得使用美国半导体来生产军用集成电路,同时启用“无限追溯”5月15日,美国产业将华为及其在“实体清单”上的关联公司的临时通用许可证延期了90日,要求华为设备使用商者尽快寻找替代商。

以上两则是美国对华在半导体、芯片上的限制。而之后,美国又对我台湾芯片制造商“台积电”下手,在此前多次建议其到美国建厂未果后,于5月11日再次提出建议。此次,台积电方在5月13日表示已经明确拒绝美国政府后,又于5月15日发布公告,表示公司将计划在美国亚利桑那州建造一座造价合120亿美元的先进芯片工厂。

这一无疑令国内芯片相关企业受到打击,由于台积电是国内技术水平相对较高的制造商,很多企业都要依靠它来购入芯片,华为就是其中之一。而台积电的技术水平与它的光刻机技术有所关联,据悉,台积电拥有全球顶尖光刻机公司—ASML一半以上的EUV光刻机,而这种EUV技术只存在于ASML一家企业。

光刻机(Mask Aligner)的工作原理类似于就是用光来制作一个图形,具体工艺为:在硅片表面匀胶,将掩模版上的图形转移光刻胶上,即将器件或电路结构临时“复制”到硅片上。而ASML的EUV光刻机融合了美国的光源设备、技术以及德国蔡司的光学镜头技术设备,在技术水平遥遥领先。

目前,拥有EUV光刻机的企业包括台积电、三星电子、英特尔,而台积电作为国内唯一一家有这种技术的企业如今也被美国间接控制,形势不容乐观。据悉,华为手机产品使用的芯片为7纳米,但这类尺寸的芯片只能依靠ASML的EUV光刻机(7纳米)来量产,这也从侧面反映了美国此举实际上在对华为进一步施压。

那么,国内还有没有其它企业可以在技术上与EUV相媲美呢?说相提并论还够不上,但这家企业已经很努力的在追赶,并在技术上已经取得了进步。

作为国内唯一一家光刻机制造厂商,2002年成立的上海微电子(SMEE)在先进封装光刻机、高亮度LED光刻机上取得了突破。据悉,该公司计划于2021年交付首台国产28nm的immersion光刻机,但与ASML相比,还有着近20年不足。

ASML成立于1984年,起步就比上海微电子早了18年,但上海微电子如今取得这样的成绩,已经很不错了。目前,它在超1000个技术与人才的共同努力下,正在以较快的速度发展,全力追赶ASML,而光刻机制造对资金以及技术积累要求苛刻,未来还需要大量人才进行补充。

放眼目前的国内市场,很多智能手机都使用了上海微电子的先进封装光刻机技术,而在之前,这种技术都是依赖国外进口,这已经是很大的进步。目前国产光刻机的突破难点在于精密零配件的技术不足,由于美国的施压,上海微电子无法购买这些零配件,因此陷入了技术瓶颈。而ASML的零配件大多来自美国、德国。

中国人民的智慧与力量是无穷的,ASML可以生产7nm—5nm的EUV光刻机,而上海微电子只能生产90nm的光刻机,有着85nm的差距。不过随着上海微电子28nm光刻机的到来,差距将被缩小至23nm,相信在技术研发人员的努力下,我国的光刻机技术会上一个新的台阶。

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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